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高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500 真空室結構:方形前開門 真空室尺寸:p500x500x500mm 極限真空度:≤3.0E-5Pa 沉積源:永磁靶4套，2英寸 樣品尺寸，溫度:p4英寸，1片，最高800°C 占地面積(長x寬x高):約2米x1.7米x2米 電控描述:全自動 工藝:片內膜厚均勻性:≤3%
更新時間：2025-05-21
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高真空磁控濺射薄膜沉積系統--TRP450 真空室結構:圓筒形前開門 真空室尺寸:φ450x400mm 極限真空度:≤6.6E-6Pa 沉積源:永磁靶3套，2英寸，可以向上濺射或向下濺射。 樣品尺寸，溫度:φ4英寸，1片，最高800C 占地面積(長x寬x高):約1米x1.8米x2米 電控描述:全自動 工藝:片內膜厚均勻性:≤3%
更新時間：2025-05-21產品型號：瀏覽量：82
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